оставить сообщение
Если вас заинтересовала наша продукция и вы хотите узнать больше подробностей, пожалуйста,
Оставьте здесь сообщение, мы ответим вам как можно скорее.
Он Модуль эксимерного лазера MINl 172 нм Это компактное настольное решение, работающее по принципу «подключи и работай». исследования и разработки в области полупроводников. и лабораторная валидацияБлагодаря использованию коротковолнового вакуумного ультрафиолетового (ВУФ) излучения, он разрывает молекулярные связи, удаляя органические загрязнения и изменяя поверхностную энергию без повреждения подложки, предоставляя гибкую платформу для проверки процессов в исследовательских лабораториях и университетах.
Модель :
EX-D75-1Центральная освещенность (@1 мм) :
>10mW/cm²Равномерность облучения :
±10%Время достижения 90% производительности :
≤5 secondsСредний срок службы лампы :
>1000 hoursМетод охлаждения :
Air coolingГабариты модуля (Д×Ш×В) :
209×142×69 mmРазмеры оконного проема (Д×Ш) :
75×50 mm
Научно-исследовательские группы используют EX-C300 для точной настройки параметров УФ-излучения с длиной волны 172 нм — дозы, рабочего расстояния и времени цикла — для активации поверхностей при монтаже кристаллов, флип-чипов и гибридных соединений. Настольный формат позволяет получать воспроизводимые данные об энергии поверхности, формируя проверенную методику монтажа перед передачей в производство.
Исследователи обрабатывают чистые и структурированные тестовые пластины фотонами в вакуумном ультрафиолетовом диапазоне с длиной волны 172 нм для установления базовых показателей чистоты перед ALD, CVD или PVD. Работа при температуре ниже 40 °C исключает любые риски, связанные с тепловым воздействием, а данные рентгеновской фотоэлектронной спектроскопии (XPS) и измерения краевого угла смачивания после обработки определяют минимальную эффективную дозу для квалификации процесса.
Устройство EX-C300 удаляет органические загрязнения с тонких металлических масок и фотошаблонов исключительно путем фотохимического окисления — без контакта, без химикатов, без остатков. Многочисленные испытания подтверждают, что элементы маски нанометрового масштаба остаются неповрежденными, определяя безопасные пределы суммарной дозы и циклов для внедрения в производство.
В лабораториях, занимающихся исследованиями и разработками в области пленок и батарей, полимерные пленки (ПЭТ, ПИ, СОП) и электродные фольги обрабатываются под контролируемым воздействием излучения с длиной волны 172 нм, после чего измеряется уменьшение краевого угла смачивания и увеличение адгезии. Процесс обработки холодными фотонами позволяет избежать термического повреждения чувствительных материалов, а полученные данные напрямую используются в производственных процессах — от лабораторных испытаний до изготовления.
Компактная и легкая конструкция, готовая к установке на настольный компьютер, работающая по принципу «подключи и работай».
Интенсивное УФ-излучение с длиной волны 172 нм, быстрое и стабильное зажигание в течение 5 секунд.
Равномерное освещение для получения стабильных и надежных результатов обработки.
Воздушное охлаждение, внешняя система охлаждения не требуется.
Доступны настраиваемые прикладные решения и услуги по проведению экспериментальных исследований по контракту.
Сертифицированная система управления качеством, гарантирующая высочайшие стандарты производства.
Полностью соответствует европейскому законодательству в области охраны здоровья, безопасности и окружающей среды.
Экологически чистое производство, полностью свободное от вредных веществ.
Соответствует строгим североамериканским критериям электроизоляции, заземления и эксплуатационной безопасности.
Этот экологически чистый, не содержащий ртути фильтр разработан для систем получения сверхчистой воды (UPW). Модуль УФ-излучения 172 нм Запускает мощное радикальное окисление, снижая содержание общего органического углерода до уровня частей на миллиард (ppb). Преобразуя органические соединения в следовые количества CO₂ и H₂O, он представляет собой идеальное решение для очистки воды в полупроводниковой, фармацевтической и лабораторной отраслях. Его продуманная модульная конструкция упрощает техническое обслуживание на месте и масштабирование системы, при этом полностью поддерживаются настраиваемые уровни мощности и скорости потока.
Повысьте точность обработки поверхностей с помощью GMY. Эксимерные лампы 172 нмИспользование передовых технологий. фотохимическое окислениеНаши решения на основе УФ-излучения с длиной волны 172 нм, не содержащие ртути, эффективно расщепляют органические загрязнения, обеспечивая чистоту на атомарном уровне на полупроводниковых пластинах, подложках дисплеев и оптических устройствах.
Откройте для себя высокую эффективность GMY. Эксимерные лампы 172 нм для промышленная фотополимеризацияМощный УФ-свет мощностью 350–1000 Вт, не содержащий ртути, обеспечивает быстрое сшивание поверхностей, матовую отделку и модификацию покрытий для печатных плат и пленок. По сравнению с традиционным УФ-отверждением, он сокращает время отверждения и усиливает эффект модификации поверхности.
Он Модуль фотомодификации GMY 172 нм Этот модуль представляет собой первоклассное вакуумно-совместимое решение для активации гидрофильности зубных имплантатов. Благодаря точной эксимерной технологии с длиной волны 172 нм, модуль очищает поверхности титана, расщепляя органические углеводороды, что значительно повышает биоактивность TiO2 и остеоинтеграцию. Разработанный для бесшовной интеграции в устройство, этот модуль отличается высокой выходной мощностью, минимальным тепловым воздействием, быстрым циклом реакции и обширным однородным покрытием пучком излучения.
ГМИ Эксимерные лампы 172 нм предлагают высокоэнергетическое УФ-излучение для разложение TOC до уровня частей на миллиард в сверхчистой воде. Безртутные лампы мощностью 15 Вт/20 Вт для промышленной водоподготовки. Генерируя свободные радикалы, наши УФ-системы окисляют органические вещества до молекул CO₂ и H₂O. Эта передовая технология особенно подходит для производства сверхчистой воды.
Он Эксимерное УФ-устройство с длиной волны 172 нм доставляет высокоэнергетическая фотоочистка и наноразмерная модификация поверхности Для полупроводников, батарей и современных материалов. Используя холодные УФ-фотоны с длиной волны 172 нм, эта компактная система разрывает органические химические связи и окисляет загрязнения без повреждения подложки. Обладает высокой однородностью ±15% Благодаря возможности работы при температурах ниже 40°C, она представляет собой экологичную и энергоэффективную альтернативу традиционным ртутным лампам низкого давления.
