Мощная эксимерная лампа 172 нм, модификация матового поверхностного фотоотверждения покрытия.

Name: Мощная эксимерная лампа 172 нм, модификация матового поверхностного фотоотверждения покрытия.
Availability: InStock

Откройте для себя высокую эффективность GMY. Эксимерные лампы 172 нм для промышленная фотополимеризацияМощный УФ-свет мощностью 350–1000 Вт, не содержащий ртути, обеспечивает быстрое сшивание поверхностей, матовую отделку и модификацию покрытий для печатных плат и пленок. По сравнению с традиционным УФ-отверждением, он сокращает время отверждения и усиливает эффект модификации поверхности.

ЗАПРОСИТЬ ИНФОРМАЦИЮ СЕЙЧАС

Технические характеристики изделия

Модель	Власть	Размер трубки (диаметр × длина)	Длина излучения	Тип охлаждения
172E1000D40×1532	1000 Вт	φ40 × 1532 мм	1390 мм	Водяное охлаждение
172E350D40×495	350 Вт	φ40 × 495 мм	353 мм	Водяное охлаждение
172E350D40x702(MC)	350 Вт	φ40 × 702±3 мм	550±3 мм	——
172E1000D40×1750 (MC)	1000 Вт	φ40 × 1750±3 мм	1598±3 мм	——

Основные характеристики

01 Эксплуатация без использования ртути

100% экологичная вакуумная УФ-обработка, полностью соответствующая международным требованиям RoHS, исключающая опасность воздействия ртути и упрощающая процессы утилизации.

02 Высокоэнергетические фотоны генерируют гидроксильные радикалы (HO*).

Излучает высокоэнергетические фотоны с длиной волны 172 нм, которые непрерывно сшивают тонкие поверхностные структуры, одновременно генерируя активные гидроксильные радикалы (HO*) для улучшения межфазного сцепления.

03 Стабильное качество и надежные поставки благодаря большим производственным мощностям.

Благодаря оптимизированному автоматизированному производству обеспечивается стабильное монохроматическое спектральное излучение в вакуумном ультрафиолетовом диапазоне, нулевой начальный температурный дрейф и надежная цепочка поставок.

04 Настраиваемая конструкция лампы для гибкого применения

Специально разработанные длины выпускных трубок до 1,6 метра, индивидуальные схемы охлаждения (водяное/воздушное) и соответствующая интеграция балласта позволяют идеально адаптировать систему к высокоскоростным промышленным линиям нанесения покрытий.

Эксимерные лампы 172 нм - Фотоотверждение

Раствор для фотополимеризации эксимерного лазера GMY 172 нм использует передовую вакуумную ультрафиолетовую технологию для достижения быстрого результата.
Высококачественная обработка и модификация поверхностей.Работая на монохроматической длине волны 172 нм,
Этот источник света направляет высокоэнергетические фотоны исключительно в верхний нанометровый слой покрытия.

Инициируя мгновенное локализованное сшивание без передачи тепла нижележащим субстратам,
Это обеспечивает безупречную матовую поверхность (эксимерное матирование) и превосходную твердость поверхности.
устанавливает новый экологический стандарт для современных линий промышленного нанесения покрытий.

------------------------------

Приложение Поля

Защитные пленки для лакокрасочного покрытия

Процесс отверждения защитных пленок для лакокрасочного покрытия.

Панели с мягким прикосновением

Процесс полимеризации панелей с мягким на ощупь покрытием.

Оборудование для нанесения покрытий

Отверждение покрытия на оборудовании.

Краски для бумаги и упаковки

Затвердевание бумаги и упаковочных красок.

Краски для мебели

Затвердевание мебельных красок.

Автомобильные чернила и сопутствующие покрытия

Отверждение автомобильных красок и аналогичных покрытий.

Пигментированные и прозрачные покрытия

Отверждение пигментированных и прозрачных покрытий.

Чернила для печатных плат

Процесс отверждения чернил для печатных плат.

Адгезивные покрытия

Отверждение клеевых покрытий.

3D-печать

Процесс отверждения при 3D-печати.

Сертификация и соответствие требованиям

ISO

ISO 9001/14001

Сертифицированная система управления качеством, гарантирующая высочайшие стандарты производства.

Сертифицировано CE

Полностью соответствует европейскому законодательству в области охраны здоровья, безопасности и окружающей среды.

RoHS

Соответствует требованиям ROHS

Экологически чистое производство, полностью свободное от вредных веществ.

Сертифицировано UL

Премиальный североамериканский стандарт соответствия требованиям электробезопасности и противопожарной защиты.

Часто задаваемые вопросы

Q Чем отличается использование эксимерного матирующего покрытия с длиной волны 172 нм от традиционных химических матирующих агентов?

Традиционные матовые покрытия изготавливаются с использованием диоксида кремния или химических добавок, которые могут ухудшить прозрачность покрытия и его механическую гибкость. Ультрафиолетовое излучение с длиной волны 172 нм избирательно отверждает только ультратонкий поверхностный слой, создавая микроскопическое сморщивание, которое физически рассеивает свет. Это позволяет получить изысканное ультраматовое покрытие, сохраняя при этом прозрачность, структурную целостность и мягкость пленки на ощупь.

Q Почему для процессов фотополимеризации с длиной волны 172 нм рекомендуется инертная среда из азота (N2)?

Атмосферный кислород сильно поглощает УФ-излучение с длиной волны 172 нм, преобразуя его в озон и резко ослабляя энергию фотонов, достигающих поверхности покрытия. Использование камеры, инертной по азоту (в идеале, с остаточным содержанием O2 ≤ 100 ppm), устраняет это ослабление, предотвращая ингибирование кислородом и обеспечивая мгновенное глубокое сшивание поверхности.

Q Можно ли свободно менять модели с водяным и воздушным охлаждением в рамках одного и того же оборудования?

Каждая модель разработана специально для своей архитектуры терморегулирования. Мощные лампы с водяным охлаждением (например, 1000 Вт) обеспечивают стабильную и непрерывную работу на высокоскоростных производственных линиях за счет регулирования избыточного тепловыделения. Конфигурации с воздушным охлаждением оптимизированы для применений с меньшей мощностью или в условиях ограниченной циркуляции жидкости. Параметры механического и электрического корпуса должны соответствовать габаритам вашего инструмента.

ГОРЯЧИЕ ТЕГИ :

Предмет : Мощная эксимерная лампа 172 нм, модификация матового поверхностного фотоотверждения покрытия.

Мощная эксимерная лампа 172 нм, модификация матового поверхностного фотоотверждения покрытия.

Технические характеристики изделия