оставить сообщение
Если вас заинтересовала наша продукция и вы хотите узнать больше подробностей, пожалуйста,
Оставьте здесь сообщение, мы ответим вам как можно скорее.
Модель :
MO-D330-6Гарантия :
1 yearИнтенсивность излучения на расстоянии 1 м :
>100 mW/cm²Однородность :
±10%Центральная интенсивность излучения 172 нм :
>70 mW/cm² @3mmСредний срок службы (интенсивность излучения ≥70%) :
2,500 hrsРазмер :
(350×350mm irradiation window)Рабочая влажность :
20%~80%Рабочая температура :
-5°C~30°CСуммарная мощность :
1200W ±10%Входное напряжение (В) :
AC 110~240VКак профессиональный китайский производитель эксимерных ламп
Ультрафиолетовое излучение с длиной волны 172 нм обладает высокой окислительной способностью. Оно расщепляет органические загрязнения и мельчайшие частицы на кремниевых пластинах, не оставляя следов. Это обеспечивает точность производства полупроводников.
Эксимерные лампы с длиной волны 172 нм излучают высокоэнергетический ультрафиолетовый свет. Они удаляют загрязнения с защитных пленок OLED/дисплейных панелей. Это предотвращает дефекты пикселей и подходит для производственных линий BOE и TCL CSOT.
Для очистки тонких металлических масок FMM с помощью УФ-лампы, эксимерной лампы 172 нм для очистки масок из инвара.
УФ-очистка OLED-пленки методом испарения, очистка металлической маски методом УФ-излучения 172 нм.
Ультрафиолетовое излучение с длиной волны 172 нм разрушает органические соединения на этих масках. Оно не повреждает структуру масок, обеспечивая точное позиционирование пикселей. Это напрямую повышает выход годной продукции.
Система роликового нанесения УФ-покрытия с длиной волны 172 нм, эксимерное УФ-покрытие.
Эксимерный УФ-свет с длиной волны 172 нм модифицирует поверхности пленок. Он создает шероховатую текстуру для матирования и улучшения адгезии покрытия. Подходит для непрерывного процесса нанесения покрытий на ролики.
Интенсивность поверхностного излучения > 100 мВт/см²; 70 мВт/см² (при толщине пленки 3 мм). Эффективно удаляет органические загрязнения.
Высококачественные электроды и точный контроль газа. Базовый срок службы более 2500 часов. Гарантия 1000 часов, без потери эффективности. < 30%. До 3000+ часов для профессионального использования.
Облучающее окно 350×350 мм, равномерность ±10%. Размер окна может быть изменен в соответствии с вашими требованиями.
Не требует предварительного нагрева, мгновенный запуск. Поддерживает высокочастотную работу и систему нанесения покрытия на валки методом «рулон к валу».
Надежная работа при температуре от -5°C до 30°C, идеально подходит для чистых помещений и зон с регулируемой температурой.
Работает с различным производственным оборудованием. Мы предлагаем индивидуальные решения с быстрой доставкой и нулевыми затратами на разработку.
Использует источник ультрафиолетового излучения с длиной волны 172 нм, не содержащий ртути, что обеспечивает безопасность и защиту окружающей среды.
Опираясь на 30-летний опыт в области УФ-излучения и производства оборудования, мы обладаем возможностями крупномасштабного производства, высокой стабильностью качества продукции, стабильной производительностью и надежной, своевременной доставкой.
Сертифицированная система управления качеством, гарантирующая высочайшие стандарты производства.
Полностью соответствует европейскому законодательству в области охраны здоровья, безопасности и окружающей среды.
Экологически чистое производство, полностью свободное от вредных веществ.
Премиальный североамериканский стандарт соответствия требованиям электробезопасности и противопожарной защиты.
Эксимерная лампа VUV с длиной волны 172 нм генерирует высокоэнергетический вакуумный ультрафиолетовый свет посредством газового разряда. Она обладает высокой энергией фотонов, значительно превышающей энергию связи обычных органических молекул.
Благодаря высокой способности разрывать молекулярные связи, свет напрямую разлагает органические загрязнители. Он также производит активные формы кислорода, что усиливает эффект очистки и удаления общего органического углерода.
Являясь надежной альтернативой эксимерным лампам Ushio и Hamamatsu 172 нм, она подходит для очистки полупроводников, очистки холодных пластин, водоподготовки CDU и UPW, пленочных матов и других промышленных задач.
Этот экологически чистый, не содержащий ртути фильтр разработан для систем получения сверхчистой воды (UPW). Модуль УФ-излучения 172 нм Запускает мощное радикальное окисление, снижая содержание общего органического углерода до уровня частей на миллиард (ppb). Преобразуя органические соединения в следовые количества CO₂ и H₂O, он представляет собой идеальное решение для очистки воды в полупроводниковой, фармацевтической и лабораторной отраслях. Его продуманная модульная конструкция упрощает техническое обслуживание на месте и масштабирование системы, при этом полностью поддерживаются настраиваемые уровни мощности и скорости потока.
Повысьте точность обработки поверхностей с помощью GMY. Эксимерные лампы 172 нмИспользование передовых технологий. фотохимическое окислениеНаши решения на основе УФ-излучения с длиной волны 172 нм, не содержащие ртути, эффективно расщепляют органические загрязнения, обеспечивая чистоту на атомарном уровне на полупроводниковых пластинах, подложках дисплеев и оптических устройствах.
Откройте для себя высокую эффективность GMY. Эксимерные лампы 172 нм для промышленная фотополимеризацияМощный УФ-свет мощностью 350–1000 Вт, не содержащий ртути, обеспечивает быстрое сшивание поверхностей, матовую отделку и модификацию покрытий для печатных плат и пленок. По сравнению с традиционным УФ-отверждением, он сокращает время отверждения и усиливает эффект модификации поверхности.
Он Модуль фотомодификации GMY 172 нм Этот модуль представляет собой первоклассное вакуумно-совместимое решение для активации гидрофильности зубных имплантатов. Благодаря точной эксимерной технологии с длиной волны 172 нм, модуль очищает поверхности титана, расщепляя органические углеводороды, что значительно повышает биоактивность TiO2 и остеоинтеграцию. Разработанный для бесшовной интеграции в устройство, этот модуль отличается высокой выходной мощностью, минимальным тепловым воздействием, быстрым циклом реакции и обширным однородным покрытием пучком излучения.
ГМИ Эксимерные лампы 172 нм предлагают высокоэнергетическое УФ-излучение для разложение TOC до уровня частей на миллиард в сверхчистой воде. Безртутные лампы мощностью 15 Вт/20 Вт для промышленной водоподготовки. Генерируя свободные радикалы, наши УФ-системы окисляют органические вещества до молекул CO₂ и H₂O. Эта передовая технология особенно подходит для производства сверхчистой воды.
Он Эксимерное УФ-устройство с длиной волны 172 нм доставляет высокоэнергетическая фотоочистка и наноразмерная модификация поверхности Для полупроводников, батарей и современных материалов. Используя холодные УФ-фотоны с длиной волны 172 нм, эта компактная система разрывает органические химические связи и окисляет загрязнения без повреждения подложки. Обладает высокой однородностью ±15% Благодаря возможности работы при температурах ниже 40°C, она представляет собой экологичную и энергоэффективную альтернативу традиционным ртутным лампам низкого давления.
