оставить сообщение
Если вас заинтересовала наша продукция и вы хотите узнать больше подробностей, пожалуйста,
Оставьте здесь сообщение, мы ответим вам как можно скорее.
Он Эксимерное УФ-устройство с длиной волны 172 нм доставляет высокоэнергетическая фотоочистка и наноразмерная модификация поверхности Для полупроводников, батарей и современных материалов. Используя холодные УФ-фотоны с длиной волны 172 нм, эта компактная система разрывает органические химические связи и окисляет загрязнения без повреждения подложки. Обладает высокой однородностью ±15% Благодаря возможности работы при температурах ниже 40°C, она представляет собой экологичную и энергоэффективную альтернативу традиционным ртутным лампам низкого давления.
Длина волны 172 нм
> 45 мВт/см²Интенсивность
30 л/минВнесение азота
